все регионы
Вход в аккаунт
Авторизация через сервисы
Вход в аккаунт используя Email и пароль
Регистрация на сайте
/ Все статьи / Технологии / Toshiba использует технологию перфорации кремния для повышения эффективности 3D NAND

Toshiba использует технологию перфорации кремния для повышения эффективности 3D NAND

Toshiba использует технологию перфорации кремния для повышения эффективности 3D NAND

Энтузиасты аппаратного обеспечения с нетерпением ждут более быстрых, доступных и надежных продуктов хранения данных, в то время как крупные центры обработки данных больше заботятся об энергоэффективностиВ этой статье мы хотим познакомить вас с технологией кремниевой перфорации (TSV), используемой в флэш-памяти Toshiba BiCS 3D TLC NAND.

Он утверждает, что снижает энергопотребление приложений хранения данных, обеспечивая при этом низкую задержку, высокую пропускную способность и высокий IOPS на ватт твердотельных накопителей корпоративного класса.По данным зарубежных СМИ, это первый кремни

Комментарии
Комментариев нет...
Добавить комментарий
Последние публикации в каталоге статей
Будьте в курсе событий и акций нашего сайта
Статистика
Всего объявлений: 85251
Добавлено сегодня: 0
Добавлено вчера: 0
Всего компаний: 951
Добавлено сегодня: 0
Добавлено вчера: 0
Всего статей: 6744
Добавлено сегодня: 0
Добавлено вчера: 0